北京西三旗科技园一期 | Aedas

项目：西三旗科技园一期
位置：中国北京
设计及项目建筑师：Aedas

业主：北京金隅创新科技孵化器有限公司

建筑面积：131,330平方米

竣工年份：2021年

主要设计人：温子先博士（Dr. Andy Wen），全球设计董事；林子欢，执行董事

摄影：CreatAR Images

近日，由Aedas全球设计董事温子先博士（Dr.Andy Wen）、Aedas执行董事林子欢带领团队打造的北京西三旗科技园一期全面竣工，不日将投入使用。

项目位于北京海淀区西三旗的高科技走廊核心地段，比邻中关村科技园和上地信息产业基地，有着浓重的高科技商务园发展氛围。周边交通便利，临近地铁8号线和13号线，地理条件极佳。

  

项目所在地

简洁大气的科技园形象

团队精准定位人群行为并合理布局建筑功能，将城市文化、未来科技、绿色建筑概念相结合，呈现西三旗科技园独特的园区形象与城市聚焦空间。设计基于人车分流的规划理念，各栋研发楼沿场地外侧围绕布置，最大化园区中心景观绿地，形成围绕中央绿地的高效步行循环系统。下沉式的景观设计，使地下空间与地上绿化融为一体，构建立体园林式办公园区，并以宜人的尺度与周边片区自然连接，友好明确极具辨识度的城市界面，也为周边城市人群提供绿色城市花园。

 

最大化园区景观绿地

丰富的公共空间

 

地下空间与地上绿化融为一体

地下空间

立面设计概念取自“古书竹简”和“时代脉冲”，将技术融入文化，历史融入未来，双重文化特征的结合，亦虚亦实，塑造出简洁大气、灵动现代的科技园形象。设计采用模数化立面，以单元式幕墙体系构建竖向线条，不影响立面效果的同时，可以随意开启，提升通风效率。低层立面起伏律动，强化特色并改善了近地建筑人性化尺度与高层建筑大尺度之间的矛盾。

项目已获得中国绿色建筑三星认证。

 

犹如古书竹简的建筑轮廓

极富辨识度的建筑轮廓

古今融合的立面形象

 

立面起伏律动